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我公司真（zhēn）空滅（miè）弧室采用雙斷（duàn）口技術通過C2級切電容試驗


更新時間：2014-08-27    作者：草莓视频黄污污污    瀏覽次（cì）數：    分享到：

    近日，從電力工業無功補償裝置設備檢測中心傳來好消息（xī）：我公司研製的BGH4520真空滅弧室，配（pèi）山東用戶的VTK-40.5kV/1250-31.5雙斷口真空斷路器，順利通過40.5kV等（děng）級切電容器組試驗。試驗共對2台樣（yàng）機的檢測，無一次（cì）重擊穿和NSDD（非持續擊穿放電）現象。試驗結果表明：我公司40.5kV真（zhēn）空滅（miè）弧室在投切電容器組性能上，實現重（chóng）要突破。

    真空開關自投（tóu）入使用來以，其以優良的電氣（qì）絕緣性能、清潔（jié）無（wú）汙染性、長壽（shòu）命等（děng）特點迅猛（měng）發展，但在切電容性能上與SF6（六氟化硫（liú））開關存在明顯差距，尤其是高電壓40.5kV等級更為（wéi）明顯。
    真（zhēn）空開關的切電容試驗一直是困擾行業的難題。雙斷口技術為40.5kV真空（kōng）滅弧室通（tōng）過切電容試驗，開辟了新的方（fāng）法（fǎ）和途徑，也將彌補真空開關尤其是40.5kV產品在投切（qiē）電容器（qì）組上的不足（zú），為中國電網在切電容（róng）器（qì）組時，提供更加安全的保（bǎo）證。
 


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